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一种制备绝缘基座的模具、方法及基座在分子探测中的应用
专利名称:
一种制备绝缘基座的模具、方法及基座在分子探测中的应用
专利类别:
发明
申请号:
2018110884651
第一发明人:
赵新佳
其它发明人:
单欣岩;陆兴华
专利授权日期:
2020-11-10
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